阿斯麦宣布High NA EUV首次投入高产量逻辑芯片生产

据阿斯麦于9月1日公布的消息，其高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻系统已首次投入大规模量产的逻辑芯片制造环节，这意味着0.55 NA光刻工艺正式完成了从验证认证到实际产线部署的关键跨越。